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과제명 : 고품위 블랭크마스크 제조를 위한 핵심기술 개발

분석구분
중소기업 정보지원
과제수행자
박장식
분석일
2016-12-23 00:00:00.0
기술산업분류
정보통신
작성기관
한국과학기술정보연구원
키워드
블랭크마스크  포토마스크  
과학기술표준분류
정보
내용
블랭크마스크는 DRAM과 같은 반도체 메모리 소자, TFT-LCD 및 Color Filter와 같은 Display Panel 등의 디바이스 제조에 사용되는 포토마스크의 핵심 원재료입니다. HOYA와 ULCOAT 등의 일본 업체는 블랭크마스크를 20년 이상 독점해서 생산하고 있으며 지속적으로 기술 개발을 활발하게 진행하고 있습니다. 고부가가치 제품인 위상 반전막의 경우, HOYA가 독점적으로 시장에 공급하고 있는 실정입니다. 국내 업체로는 2001년에 설립된 에스앤에스텍이 유일하게 블랭크마스크를 국산화해서 제조업체로서 일본 업체와 경쟁하고 있습니다. 그러나 아직까지 많은 중저가 제품을 일본으로부터 수입하고 있어서 시급하게 국산화가 요구되고 있습니다.
분석물
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