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* 글로우 방전-광학적 방출 분광법 : 신뢰할 박막 분석을 향한 움직임(Glow discharge optical emission spectrometry: Moving towards reliable thin film analysis-a short review)

전문가 제언: □ 깊이 측면 상 분석을 위한 글로우 방전 광학적 방출 분광법(GD-OES)은 주로 강철에 금속코팅뿐만 아니라 어떤 특수한 적용에도 광범위하게 응용하기 위하여 설립된 분석기술이 되었다. 이 사실은 강철위에 아연- 기초된 코팅의 GD-OES 깊이 측면 상을 취급하는 과정에서 현재 국제 표준화에 광대한 연구로 입증된다.

□ 그 위에 GD-OES 는 특히 비-전도성 물질에 대한 rf 방전과 대단히 얇은층의 근-표면 분석의 분야에서 아직까지도 급속히 발전되고 있는 기술이다. 최근에 박막과 근-표면 분석의 임무에 대한 연구는 대단히 성공적이어서 계속해서 실제 응용에 확장된 지식을 제공하며 측정기술을 개선하고 있다.

□ 박막 응용을 위하여 state-of-the-art GD-OES 시스템은 SIMS와 AES와 유사한 깊이-분해능이 가능하다는 것이 증명되었다. 이러한 고무적인 경험은 기본적인 연구 업무에서 더욱 더 활성도의 원인이 되었다. 주된 연구 노력은 그러한 응용들에 대한 정량화 방법을 개선하는데 목표를 두었다. 아주 얇은 층의 정량화에 대하여 수소 보정이 고려되어야 했다. 그 위에 짧은 수명의 분자 방출은 분석결과에 영향을 줄 수 있음이 증명되었다.

□ 모델링의 연구가 진행되고 GD-OES 데이터에 응용되도록 준비되었다. 부식속도와 크레이터(분화구, 구멍)모양은 모델로 계산되었고 그것은 깊이 분해능과 램프 디자인의 개선에 이르게 될 것이다. 처음 박막 보증된 기준 물질(CRM)의 개발은 성공적이었고 그 개발은 기본적 이해와 모델링 활성도를 개선하는데 도움이 될 것이다.

□ 박막 분석 임무에 대한 GD소스를 개선하기 위한 어떤 요구들이 있다는 것은 또한 그 보고가 나타냈다. 최종적으로 GD-OES로서 박막분석은 계속적으로 진보되지만 개발 활성도에 대한 요구도 명약관화하다.

□ 최근 박막 증착기술과 공정의 응용의 중요성은 아무리 강조해도 지나치지 않는다. 박막 증착기술에 사용되는 가장 일반적인 중요한 기술에는 진공 시스템, 증발, 스퍼터링, 도금, CVD, 레이저 어블레이션, 졸 겔 코팅 등이 있다. 이들 박막생성기술 못지않게 중요한 기술이 박막 특성분석이다.

□ 그 특성 분석 중 가장 기초적인 구조 분석에 박막 두께 분석과 표면형상이 포함된다. 그 두께 분석 중 최근 가장 신뢰할 수 있는 글로우 방전-광학적 방출 분광법(GD-OES)의 응용은 박막 생성과 공업적 활용의 획기적인 발전에 기여할 것이다.

□ 특히 박막두께분석 중 글로우-광학적 방출분석(GD-DES)법에서는 측정기술, GD소스 조절과 디자인, 분자기체의 흔적 량 효과, 보정과 정량화 방법, 모델링의 기여 및 박막분석 기준시료 등 산적한 연구 개발을 통해 최적 및 정량화된 표준 박막분석 측정법을 실용화 하여야 한다.

저자: Angeli, Johann; Bengtson, Arne; Bogaerts, Annemie; Hoffmann, Volker; Hodoroaba, Vasile-Dan; Steers, Edward
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